德国Merck总部坐落于德国达姆施塔特，是全球历史悠久的科技医药与先进电子材料企业，业务覆盖医药健康、生命科学以及高性能电子材料板块。在半导体光刻材料领域，依托原 AZ 电子材料技术积淀，深耕光刻胶、配套功能性化学品与光刻配方原料，面向逻辑芯片、存储芯片、先进晶圆制程提供完整光刻解决方案。企业持续迭代适配 i 线、KrF、ArF、浸没式光刻与 EUV 工艺的各类光刻配方组分，包含光刻主体树脂、光敏组分以及各类功能性添加剂，所有电子化学品执行超高纯度管控标准，严控金属杂质含量，配套配方选型、工艺调试、纯度检测全套技术支持，产品供应全球晶圆制造、先进封装与显示面板行业。
德国Merck光刻胶添加剂属于光刻胶配方内功能性精细化学品，按照功能划分为光致产酸剂、酸淬灭剂、含氟表面活性流平剂、基底附着力促进剂、增感助剂五大类别，适配 DNQ 酚醛型光刻胶与化学放大型光刻胶两大体系，可分别用于 i 线、KrF、ArF 干式与浸没式光刻工艺，同时有专门面向 EUV 先进制程开发的新一代组分。光致产酸剂在曝光条件下释放磺酸类强酸，驱动光刻胶树脂脱保护反应，区分锍盐、碘鎓盐、酰亚胺磺酸酯多种化学结构，不同组分拥有差异化感光波段、酸扩散速率与热稳定性能，可单独使用或复配调配光刻灵敏度与图形轮廓。酸淬灭剂多为有机胺类弱碱性化合物，用于捕获扩散游离的光酸，抑制曝光区域外发生不必要化学反应，改善线宽均匀性，避免图形出现圆角、底切等缺陷。含氟表面活性流平剂在旋涂成膜阶段自发富集薄膜表层，降低表面张力，消除旋涂产生的缩孔、条纹缺陷，浸没式光刻专用型号还可以抑制产酸剂向浸泡水中析出，减少制程缺陷。附着力促进剂用于提升光刻胶薄膜与硅基底、氧化层、金属层之间结合力，缓解显影与刻蚀阶段图形脱落、倒塌问题。增感助剂用于拓宽感光区间，提升低能量光源下光刻胶响应速度。各类添加剂均提供不同纯度等级，常规制程使用电子级，先进纳米制程采用超高纯度半导体规格，出厂采用避光密封包装防止提前分解，企业可依据光刻胶主体树脂类型、曝光光源、目标制程线宽，协助客户匹配添加剂种类与添加比例，同步提供储存条件、投料混合流程、热稳定性评估全套工艺指导。
德国Merck公司主要产品型号如下，欢迎咨询选购：
一、光刻胶系列
g 线 /i 线通用正型光刻胶
AZ1500
AZ3100
AZ6100
AZ GXR600
AZ MIR700
AZ MIR900
AZ5200E
KrF DUV 光刻胶
AZ DX3200P
AZ DX5200P
厚膜光刻胶
AZ P4000
AZ 10XT
AZ ALP
剥离工艺专用光刻胶
AZ nLOF2000
AZ nLOF5500
AZ nLOF K7000
AZ pLOF
面板显示光刻胶
AZ TFP300
AZ TFP600
AZ SFP
AZ SR
AZ RFP
AZ CTP
二、光刻胶添加剂
光致产酸剂 PAG
TPS-OTf
TPS-PFOS
TPS-Nf
TPS-DBS
DPI-OTf
DPI-Nf
DPI-TFSI
NITF-1
NITF-2
NISF-EUV
EUV-PAG-S1
EUV-PAG-S2
酸淬灭剂 Quencher
QA-T1
QA-T2
QA-T3
QA-H1
QA-H2
QA-C1
QA-C2
含氟流平剂
FLU-101
FLU-102
FLU-I105
FLU-I108
FLU-E110
附着力助剂
HMDS
AZ ADH-1
AZ ADH-2
光敏增感剂
SEN-K1
SEN-A2
三、光刻配套辅材
抗反射涂层 BARC/TARC
AZ BARLi 系列
AZ AQUATAR VIII
显影液
AZ 300MIF
AZ 726MIF
AZ 917MIF
边缘珠去除剂
AZ EBR70/30
AZ EBR 溶剂型
光刻胶剥离液
ACT 410
ACT 915A
Dynasolve Pi4310
四、半导体清洗与蚀刻化学品
ACT NE-89 蚀刻残留去除液
ACT 铝制程清洗液
选择性氧化物蚀刻液
聚酰亚胺显影液
五、薄膜沉积前驱体材料
DEMS 二乙氧基甲基硅烷
BTBAS
3DMAS
TEOS
Spinfil 旋涂介电材料
AP-LTO
AP-LTN
PDEMS
六、液晶与 OLED 光电材料
TN/VA 液晶混合物
PSVA 液晶材料
OLED 空穴传输材料
OLED 发光层材料
电子传输材料
封装阻隔涂层材料
七、生命科学 Sigma-Aldrich 科研试剂
高纯无机盐
纳米材料
碳纳米管
量子点
PEG 生物聚合物
色谱标准品
细胞培养试剂
缓冲盐试剂
八、色母与效果颜料
Iriodin 珠光颜料
Colorstream 变色颜料
Xirallic 晶体效果颜料
Timiron 金属光泽颜料
九、配套技术服务
1. 光刻胶与添加剂配方选型指导
2. 旋涂、曝光、显影全流程工艺调试
3. 薄膜缺陷（条纹、缩孔、图形倒塌）优化方案
4. 超高纯度电子化学品储存、投料规范
5. 前驱体 CVD/ALD 沉积工艺参数支持
6. 液晶、OLED 材料器件制备工艺指导
7. 实验室高纯试剂纯化、质控方案
其他注意事项：
更详细的技术资料需通过提供项目详情获取，欢迎咨询。
我公司自营进出口权，直接海外采购，国外现货航空件几天就能交到您的手中。
