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日本Fujifilm公司及EUV Pellicle(极紫外光罩保护膜)产品介绍
2026-08-10
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日本Fujifilm最初依托感光胶片业务起步,经过多年业务转型发展为横跨医疗健康、半导体电子材料、商业数字化方案、影像四大板块的综合科技企业,半导体先进光刻配套材料是其核心优势赛道,可完整供应 EUV、ArF、KrF、电子束全波段光刻胶以及掩模配套保护膜、光刻辅助化学品,EUV Pellicle 极紫外光罩保护膜面向先进制程 EUV 光刻机掩模防护场景开发,依托自研超薄无机薄膜制备工艺,兼顾极紫外高透光、高机械强度与抗等离子辐照稳定性,适配各类 EUV 量产机型,同时配套保护膜专用清洗、修复辅助耗材,面向晶圆制造厂、掩模生产企业提供标准化保护膜与定制化薄膜改良开发服务,在先进制程光刻配套材料领域拥有完整工艺与量产交付能力。


日本Fujifilm EUV Pellicle 极紫外光罩保护膜整体按照薄膜基材材质、膜层厚度、耐受辐照寿命划分为硅基标准系列、硅基长寿命增强系列、复合碳基超薄系列三大主线,同时区分标准尺寸掩模适配型号与大尺寸定制型号,硅基标准 PSE 基础系列是量产通用款,薄膜厚度均衡,极紫外波段透光表现稳定,抗颗粒附着能力适配常规 EUV 量产工况,膜框材质选用低放气合金,适配主流商用 EUV 设备标准掩模规格;硅基长寿命 PSE-H 系列加厚抗辐照缓冲层,耐受长时间连续曝光辐照,薄膜形变抑制性能大幅提升,适合高产能持续量产产线,可降低保护膜更换频次;复合碳基 PCE 超薄系列采用多层复合碳纳米薄膜结构,整体厚度更薄,极紫外光吸收损耗更低,图形边缘干扰更少,适配七纳米及以下超先进高精度制程,适合对成像线宽粗糙度有严苛要求的高端芯片制造;另外还有 PSE-L 轻量化窄边框型号,适配紧凑型掩模载具设备,PCE-EX 超高稳定改良碳基型号针对高离子轰击严苛工艺优化抗老化性能,常规成熟制程量产选用 PSE 标准款,高负荷连续生产产线选用 PSE-H 长寿命款,三纳米、两纳米超先进制程选用 PCE 或 PCE-EX 碳基超薄款,小型定制掩模设备匹配 PSE-L 轻量化型号,全部系列均可搭配富士配套保护膜专用清洗液、表面中和试剂一同使用。




日本Fujifilm公司主要产品型号如下,欢迎咨询选购:




一、半导体电子材料

EUV Pellicle 极紫外光罩保护膜

PSE-STD 标准量产硅基极紫外保护膜

PSE-L 轻量化窄边框硅基保护膜

PSE-H 长寿命抗辐照硅基保护膜

PSE-HX 超高耐久重载硅基保护膜

PCE 标准超薄碳基极紫外保护膜

PCE-EX 超高稳定改良碳基保护膜

EUV 光刻胶及配套材料

EUV NTI CAR 负显影 EUV 光刻胶

DP819A EUV 专用负显影显影液

电子束光刻胶

正性电子束光刻胶

FEP-171 标准通用电子束正胶

FEP-171D 低粘度可调膜厚款

FEP-171H 高耐刻蚀强化款

XFP-255HC 45nm 级制程光刻胶

XFP-355 14~20nm 先进制程光刻胶

SLP 基础超薄电子束光刻胶

SLP-HP 高平整度超薄光刻胶

负性电子束光刻胶

FEN-271 通用高灵敏负性电子束胶

XFN-003 7~10nm 超精细负胶

SLN 基础超薄电子束负胶

SLN-HP 高稳定超薄负胶

紫外波段光刻胶

g 线 /i 线光刻胶

OiR 674 系列反射基底专用光刻胶

GiR 1102 系列通用 i 线光刻胶

GiR 2700 系列高分辨率 i 线光刻胶

OiR 305 系列通用高解析光刻胶

OiR 906 系列厚膜 i 线光刻胶

HiPR 6500 系列 g/i 线兼容光刻胶

FHi-560EP 厚膜成型光刻胶

KrF (248nm) 光刻胶

GKR-46xx 离子注入专用光刻胶

GKR-32xx 离子注入专用光刻胶

GKR-53xx 接触孔光刻胶

GKR-63xx 线条沟槽光刻胶

ArF (193nm) 干式 / 浸没式光刻胶

ArF 浸没式 NTD 负显影光刻胶系列

ArF 干式浅沟槽隔离光刻胶系列

先进封装半导体材料

ZEMATES 感光性聚酰亚胺绝缘薄膜

ZEMATES 液态感光绝缘树脂

纳米铜系导热粘接材料

半导体制程辅助耗材

AstroPore 半导体精密过滤滤芯

Prescale 晶圆贴合压力感测胶片

CMP 研磨液系列

Post-CMP 晶圆清洗液

电子束光刻专用显影液

光刻胶剥离清洗液

晶圆表面增粘促进剂

光刻胶稀释调节溶剂

基底表面中和液

图像传感器彩色滤光材料

WAVE CONTROL MOSAIC KrF 适配型传感器彩胶


二、民用影像产品

GFX 中画幅无反相机

GFX100RF 内置镜头亿像素中画幅相机

GFX100 II 旗舰中画幅无反相机

GFX100S II 轻量化亿像素中画幅相机

GFX50S II 入门中画幅无反相机

GFX ETERNA 55 电影中画幅摄影机

X 系列 APS-C 无反相机

X-H2S 高速旗舰无反相机

X-H2 8K 视频旗舰相机

X-T5 高像素复古机身

X-T30 III 入门复古 Vlog 相机

X-E5 便携复古无反相机

X-S20 视频轻量化机身

X100VI 固定镜头复古旁轴相机

X half (X-HF1) 半格复古便携相机

FUJINON 可换镜头

GF 中画幅镜头

GF55mmF1.7 R WR 大光圈定焦镜头

GF80mmF1.7 R WR 人像定焦镜头

GF20-35mmF4 R WR 超广角变焦镜头

GF35-70mmF4.5-5.6 WR 套机变焦镜头

XF/XC APS-C 镜头

XF23mmF2.8 R WR 饼干定焦镜头

XC13-33mmF3.5-6.3 OIS 入门变焦镜头

XF16-55mmF2.8 R LM WR II 标准大光圈变焦

XF150-600mmF5.6-8 R LM OIS WR 超长焦镜头

instax 一次成像相机

instax mini 41 入门一次成像相机

instax mini LiPlay+ 数码混合拍立得

instax mini Evo Cinema 复古数模相机

instax WIDE Evo 宽幅数模拍立得

instax SQ40 方形复古拍立得

instax mini 99 潮流拍立得相机

instax 照片打印机

instax mini Link + 手机照片打印机

instax mini Link 3 便携打印机

instax Link WIDE 宽幅无线打印机

SQUARE Link 方形照片打印机

传统胶片产品

彩色负片胶卷

Fujicolor 200 日光型彩色负片

Fujicolor 400 高感彩色负片

Superia X-TRA 400 民用高感胶卷

彩色反转胶片

Velvia 50 高饱和风光反转片

Provia 100F 标准平衡反转片

Astia 100F 人像柔和反转片

一次性胶片相机

QuickSnap 一次性胶片相机系列


三、专业广电 & 电影光学设备

电影级变焦镜头

Premista 19-45mmT2.9 全画幅电影变焦镜头

HK Premier 旗舰电影变焦镜头

ZK Cabrio 4K 电影伺服变焦镜头

XK Cabrio 20-120mm 4K 电影镜头

MKX18-55mmT2.9 入门电影镜头

MKX50-135mmT2.9 长焦电影镜头

广播电视转播镜头

LA30x7.8BRM 4K 长焦广播变焦镜头

UA22×4.8BERD 4K 广角广播镜头

专业光学配件

FUJINON TS-L 系列防抖双筒望远镜


四、医疗健康设备与耗材

医用干式成像设备

DRYPIX EDGE 医用干式激光成像仪

DRYPIX 8000 医用激光胶片打印机

医用干式成像胶片

DI-HL 医用干式成像胶片

MDI-HLJ 系列医用诊断胶片

干式生化分析仪及检测片

DRI-CHEM AU20V 全自动荧光免疫分析仪

DRYCHEM AMYL-PⅢ 淀粉酶检测片

DRYCHEM HDL-C-PⅢD 胆固醇检测片

DRYCHEM Na-K-Cl 电解质检测片

DRYCHEM ALB-P 白蛋白检测片

医用内镜系统

ELUXEO 系列高清电子内镜

REiLI AI 辅助内镜诊断系统

医用影像 IT 系统

Synapse PACS 医学影像归档系统

医用冲洗化学品

XD-25 医用显影浓缩液

XF-25 医用定影浓缩液

生命科学产品

细胞培养专用培养基

功能性膳食补充剂

小分子药物 CDMO 定制生产原料

体外诊断 IVD 试剂


五、商业创新印刷与工业产品

数字印刷生产设备

Revoria Press PC2120 彩色数码印刷机

Revoria Press EC2100S 数码印刷机

Revoria Press EC2100 数码印刷机

Revoria Press SC285S 数码印刷机

Revoria Press SC285 数码印刷机

ACUITY TR UV 工业喷墨印刷机

CTP 印刷版材

Brillia 热敏 CTP 印刷版材

Brillia 免处理 CTP 版材

工业功能耗材

UV 固化工业喷墨墨水

纺织数码印花专用墨水

高透光学保护膜

建筑隔热节能窗膜

柔性电路基材薄膜

数据存储产品

Ultrium LTO 磁带存储介质

水处理工业膜组件

海水淡化反渗透膜

气体分离功能膜


六、配套技术服务

EUV 保护膜制程寿命仿真测算

掩模尺寸定制保护膜裁切加工

薄膜抗辐照性能改良开发

半导体光刻胶工艺参数调试

掩模版量产光刻方案定制

MEMS / 光子芯片光刻材料匹配

医疗影像设备整机维保校准

广电镜头光学调校与维修

胶片冲印色彩工艺定制

先进封装材料工艺适配调试




其他注意事项:

更详细的技术资料需通过提供项目详情获取,欢迎咨询。

我公司自营进出口权,直接海外采购,国外现货航空件几天就能交到您的手中。



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