德国 ALLRESIST是深耕微纳加工领域的德国专业光刻胶研发制造企业，聚焦各类曝光工艺适配的光刻胶及配套工艺化学品研发量产，产品能够适配紫外曝光、电子束曝光、X 射线同步辐射曝光多种工艺光源，面向高校科研院所、微机电系统制造企业、半导体晶圆厂商、精密电镀产线提供材料方案。企业具备定制化光刻胶配方调校能力，既可供应实验室小规格试样产品，也可实现工业化批量稳定供货，除核心厚膜、高精度光刻胶之外，同步配套基底附着力助剂、底部抗反射涂层、专用显影液等全套制程辅材，持续优化厚胶成型、高温耐受、电镀稳定等特殊性能的光刻胶产品，依靠成熟的树脂合成与感光体系调配技术，为大深度微结构、LIGA 精密器件、电镀模具等特殊微加工场景提供完整光刻材料支撑。
ALLRESIST 厚胶光刻胶整体分为负型厚膜光刻胶与正型厚膜光刻胶两大核心品类，负型产品线以 AR-N 4400 系列作为主力产品，依靠化学增幅感光体系打造多款不同固含量型号，AR-N 4400-05 与 AR-N 4400-10 可通过旋涂工艺形成中等厚度胶层，适配常规电镀图形制作，AR-N 4400-25 能够实现更厚胶膜成型，AR-N 4400-50 是该系列最高固含量规格，可制备超厚光刻胶层，全系能够兼容宽波段紫外、i 线 g 线紫外、电子束、X 射线同步辐射多重曝光方式，胶层固化后边缘陡直度出色，基底附着力优异，电镀工况下不会出现胶层起翘开裂，工艺结束后可实现整体去除无残胶，同系列衍生型号 AR-N 4600 也就是 Atlas 46 厚胶产品，采用更为安全的 PGMEA 溶剂体系，分为常规可剥离型号与高粘度加厚型号，可直接制备大厚度胶层，通过定制化调配能够实现极限厚胶涂布成型，多用于深度 LIGA 结构与大型电镀模具加工，AR-N 4650 型号侧重剥离工艺使用，成型剖面结构利于金属镀膜剥离作业；正型厚胶选用 AR-P 3200 系列产品，AR-P 3210 适配中等厚度正胶图形，AR-P 3250 拥有更好的耐热与抗等离子刻蚀能力，AR-P 3220 可以通过多次旋涂叠加实现超厚胶层单次显影成型，正胶厚胶依托酚醛树脂感光体系，具备优秀的图形尺寸稳定性，适配需要正性剖面的厚层微结构制备，全部厚胶产品都可以依靠调整旋涂转速、固含量、涂布次数灵活调控胶层总厚度，储存条件做精细化区分保障感光性能稳定，工艺人员可以结合曝光光源类型、目标胶层厚度、后续电镀或是刻蚀工艺、图形剖面需求挑选对应厚胶型号，广泛用于 LIGA 微结构器件、精密金属电镀模具、微流控深腔通道、传感器厚膜结构、晶圆台阶覆盖成型等加工场景。
德国 ALLRESIST公司主要产品型号如下，欢迎咨询选购：
一、正性紫外光刻胶（Positive Photoresist）
AR-P1200 喷涂型光刻胶系列
AR-P1200
AR-P3100 通用正胶系列
AR-P3100
AR-P3200 高分辨率正胶系列
AR-P3200
AR-P3500 (T) 厚胶电镀型光刻胶
AR-P3510(T)
AR-P3540(T)
SX AR-P3500/8 高温耐受型
AR-P3700/3800 超高对比度精细光刻胶
AR-P3740
AR-P3840
AR-P5300 剥离工艺专用光刻胶
AR-P5300
AR-P5900 耐氢氟酸特种光刻胶
AR-P5910
二、负性紫外光刻胶（Negative Photoresist）
AR-N2200 喷涂负胶系列
AR-N2210
AR-N2220
AR-N2230
AR-N4200 深紫外高灵敏负胶
AR-N4240
AR-N4340（CAR44）通用高灵敏负胶
AR-N4340
SX AR-N4340/7 高温稳定型
AR-N4400 厚层电镀负胶（CAR44）
AR-N4400-05
AR-N4400-10
AR-N4400-25
AR-N4400-50
AR-N4600（Atlas46）超厚结构光刻胶
AR-N4600-10
三、图像反转光刻胶
AR-U4000 反转光刻胶系列
AR-U4030
AR-U4040
AR-U4060
四、电子束光刻胶（E-Beam Resist）
PMMA 基电子束胶 AR-P679 系列
AR-P679.01
AR-P679.02
AR-P679.03
AR-P679.04
共聚物高灵敏电子束胶
AR-P617
CSAR62
Novolac 基电子束胶
AR-N7500
AR-N7520
AR-N7700
AR-N7720
Medusa 硅基高耐蚀电子束胶
SX AR-N8200（Medusa82）
SX AR-N8250
SX AR-N8400（Medusa84 SiH）
双层剥离底层电子束胶
AR-P8100
五、双层剥离工艺底层胶
AR-BR 底层剥离胶系列
AR-BR5460
AR-BR5480
AR-BR5640
六、光刻保护涂层（Protective Coating）
AR-PC 防护涂层系列
AR-PC503
AR-PC504
AR-PC5040
AR-PC5092.02（Electra92）
AR-PC5094.02（Electra94）
七、光刻配套化学品
显影液
X AR600-50/2 显影液
稀释剂
X AR300-74/1 光刻胶稀释剂
终止液
X AR600-60/1 显影终止液
其他注意事项：
更详细的技术资料需通过提供项目详情获取，欢迎咨询。
我公司自营进出口权，直接海外采购，国外现货航空件几天就能交到您的手中。
