美国 Dow是源自美国的全球化材料科学企业，深耕化工与先进电子材料领域多年，依托高分子材料核心研发能力，面向半导体、工业制造、涂料、包装等众多行业提供各类高性能材料产品与配套技术方案。企业在全球多地布局研发中心与生产基地，具备完善的规模化量产与技术服务能力，在半导体化学机械抛光耗材赛道拥有深厚技术积累，持续针对芯片制程迭代开发适配的抛光垫、抛光液产品，深度服务八英寸与十二英寸晶圆产线，兼顾成熟工艺与先进制程的平坦化需求，能够配合晶圆制造企业优化抛光工艺，降低晶圆表面缺陷，提升生产良率，同时持续根据产业发展趋势改良材料配方与结构设计，为半导体制造提供稳定可靠的耗材解决方案。

美国 Dow化学机械抛光垫拥有多条成熟产品系列，IC1000 属于经典硬质抛光垫，长期作为行业基准产品，适配硅氧化物、钨金属等多种基础平坦化工序，孔隙结构稳定，抛光去除速率均衡，通用性强；VISIONPAD5200 抛光垫拥有更高孔隙率，能够提升钨、铜相关工艺的材料去除效率，减少抛光液消耗，同时改善晶圆表面碟形与侵蚀问题，VISIONPAD6000 偏向低缺陷应用场景，依靠优化的高分子结构降低微划痕产生概率，适合对表面平整度要求严苛的介质层抛光工序；OPTIVISION 系列属于软性抛光垫，其中 OPTIVISION4540 采用双孔隙结构，多用于铜阻挡层抛光，抛光全程性能稳定，能够有效抑制震动缺陷，延长抛光垫使用寿命；IKONIC 平台包含多条细分型号，IKONIC2000 系列属于低硬度抛光垫，适配铜阻挡层以及抛光后修整工序，抛光缺陷控制表现优异，IKONIC3000 系列为中等硬度规格，主要用于铜主体抛光，优化晶圆形貌控制能力，IKONIC4000 系列面向铈基抛光场景，在抛光垫全生命周期内维持稳定去除速率，大幅降低成品缺陷，此外还有 POLITEX 软性抛光垫，多用于最终抛光修整工序，进一步优化晶圆表面粗糙度，全部抛光垫均可按照产线设备规格定制尺寸、沟槽样式，适配主流抛光设备，覆盖浅沟槽隔离、铜互连、钨互连、介质层平坦化等晶圆制造各类 CMP 工序，可根据工艺节点、抛光浆料类型搭配对应型号实现工艺匹配。 

美国 Dow公司主要产品型号如下，欢迎咨询选购：

一、半导体 CMP 化学机械抛光垫

IC1000

VISIONPAD5200

VISIONPAD6000

OPTIVISION4540

IKONIC2000 系列

IKONIC3000 系列

IKONIC4000 系列

POLITEX

二、CMP 抛光液

ACuPLAN5100

Novaplane 系列

Optiplane 系列

Acuplane 系列

Klebosol 系列

三、半导体封装有机硅材料

DOWSIL ME-1603

DOWSIL EG-4175

DOWSIL EG-4180AS

DOWSIL EA-7158

DOWSIL EA-3939

DOWSIL SE 1700

四、导热界面材料

DOWSIL TC-3015

DOWSIL TC-3035

DOWSIL TC-3065

DOWSIL TC-3080

DOWSIL TC-4060

DOWSIL TC-5026

DOWSIL TC-5550

五、电子级溶剂与表面活性剂

DOWANOL DPnB

DOWANOL TPnB

TRITON X-100

TERGITOL 15-S-9

DOWFAX 2A1

六、半导体配套清洗化学品

TRITON HW-1000

TRITON RW-150

TRITON CF-10

TRITON CF-21

TRITON CF-32

其他注意事项：

更详细的技术资料需通过提供项目详情获取，欢迎咨询。

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