 刻蚀机射频电源&pic=https://www.octsources.com/upload/images/site/20240521/17162563772507049.png)
Advanced Energy Industries, Inc.（纳斯达克股票代码：AEIS）是一家全球领先的高精度电源转换、测量和控制系统供应商，总部位于美国科罗拉多州。公司成立于1981年，专注于为半导体、工业、医疗和数据中心等高科技领域提供创新的电源解决方案。在半导体设备领域，AE的射频（RF）电源以高稳定性、精确控制和长寿命著称，广泛应用于刻蚀（Etch）、化学气相沉积（CVD）等关键工艺环节。
AE的射频电源为半导体刻蚀设备提供高频率、高功率的稳定能量输出，确保刻蚀工艺的均匀性和重复性。其产品特点包括：
频率范围：覆盖主流射频频段（如2 MHz、13.56 MHz、27 MHz、60 MHz等）。
高功率密度：模块化设计，支持多级并联以满足高功率需求。
先进控制算法：实时阻抗匹配和快速响应，适应复杂工艺变化。
可靠性：专为24/7严苛的半导体 fab 环境设计。
若您有任何需求和疑问，欢迎联系我们咨询选购。
以下是AE主要射频电源系列及典型型号（适用于刻蚀机应用）：
1.eVerest™ RF电源系统介绍
应用领域：半导体制造（如蚀刻、PVD、PECVD、ALE、ALD等）
核心功能与优势：
高精度等离子体控制：
可配置多级脉冲（八级脉冲），支持瞬时或用户定义的过渡时序。
高速、高精度频率调谐（±10%范围），提升工艺稳定性。
快速设定点响应（<200 µs）和脉冲上升/下降时间（<2 µs）。
创新技术：
PowerInsight™ IoT平台：嵌入式数据生态系统，支持实时数据收集、分析和可视化，优化故障排查与决策。
SyncTech™同步技术：智能匹配网络和同步控制，确保系统兼容性。
关键规格：
输出功率：3.5 kW 至 10 kW
频率范围：1 MHz 至 60 MHz
通信接口：EtherCAT®、RS-232、以太网
行业应用：
支持<2 nm沉积和蚀刻工艺，扩展工艺窗口，提升良率。
产品型号
eVerest™ 旗舰RF电源系统，支持多级脉冲和高速频率调谐。
APEX® 数字/模拟RF等离子体发生器。
Navigator® II全数字RF匹配网络，基于模型调谐。
Paramount®/Paramount®+ 高密度/数字控制RF电源解决方案。
eVos™ 可调离子能量RF电源。
NavX™ 匹配网络，支持MLP（多级脉冲）调谐和脉冲内状态调谐。
1.
UltraVolt® 系列（高压电源）
8A24（24 kV, 8 W）
10C24（24 kV, 10 W）
20A12-P4（12 kV, 20 W）
Excelsys® 系列（可配置电源）
X6 600W（医疗 & 工业应用）
XSL 400W（紧凑型电源）
Pinnacle® 系列（等离子体电源）
5kWh（高功率 RF 电源）
Pinnacle Plus+（增强版）
Ascent® 系列（直流电源）
APM 系列（可编程模块化电源）
Artesyn® 系列（现属 Advanced Energy）
CSU1000A（1U 服务器电源）
LCC1200（医疗级电源）
SureTest®（电压与电流探头）
STX-1（高压探头）
ST-5（通用型探头）
细分型号：
型号:
Navigator NX100（1000W, 13.56MHz）
Navigator NX200（2000W, 13.56MHz/2MHz）
Navigator NX60（600W, 60MHz）
特点: 模块化设计，支持多频率，适用于高精度刻蚀。
型号：:
Ultra Q RG3（3000W, 13.56MHz）
Ultra Q RG5（5000W, 13.56MHz）
特点: 高功率输出，适用于大规模晶圆刻蚀。
型号:
Pinnacle 5+（5000W, 13.56MHz）
Pinnacle 10+（10kW, 13.56MHz）
特点: 面向极高功率应用，支持脉冲射频模式。
型号:
Cesar 1312（1200W, 13.56MHz）
Cesar 1340（4000W, 13.56MHz）
特点: 紧凑型设计，适用于空间受限的设备。
型号:
RFX 2K（2000W, 2MHz/13.56MHz）
RFX 6K（6000W, 13.56MHz）
特点: 高性价比，适用于中低功率刻蚀。
若有您有任何疑问或需求，欢迎咨询。
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